《国语辞典》：次微米计画（次微米计画） 拼音：cì wéi mǐ jì huà
次微米计画指开发小于一微米的半导体制作技术的计画。民国七十九年，为建立完整之半导体产业，引导产业进入次微米时代。经济部委托工研院电子所筹建次微米实验室。正式展开为期五年（西元一九九○至一九九五年）的次微米研发工作如下：(1)建立一座八吋晶圆，Class 0.1(0.3微米）的世界一流水准的实验室，以提供开发次微米制程技术。(2)在一九九五年以前使中华民国具备：a.0.7/0.5微米整合制程技术。b.0.35微米制程模组技术。(3)建立超洁净技术及八吋晶圆量产型技术。(4)建立中华民国极大型积体电路（ULSI）研究发展能力，并对世界IC研究发展的领域有所贡献。
《国语辞典》：国科会毫微米元件实验室（国科会毫微米元件实验室） 拼音：guó kē huì háo wéi mǐ yuán jiàn shí yàn shì
行政院国家科学委员会所属国家实验室之一。英文名称为National Nano Device Laboratories，简称NDL。座落于新竹国立交通大学校园内，紧临著科学园区。民国七十七年行政院核准了「国家毫微米元件实验室」的五年发展计画，民国八十一年完成了Clean-room的建造，并随即开放提供学术界进行半导体材料及元件的研发。本实验室的主要宗旨是以先进的技术设备，支援全国大学院校进行半导体元件材料的研究，培育学术界及产业界所需之尖端人才，并结合学术与产业界从事毫微米元件关键性技术之研究发展，提升国内电子领域之研究水准，推动尖端的半导体科技，以增加我国积体电路工业之竞争力。